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Product Information 製品情報
Silson社のシリコン薄膜は、窒素の含有を避けたいアプリケーションにおいて、窒化シリコン薄膜に代わる最適な選択肢となります。
また、軟X線や極端紫外線(EUV)領域において、窒化シリコン薄膜よりも高い透過率を実現します。
本製品は導電性シリコンウエハーを基板としているため、電子顕微鏡等の用途において帯電抑制効果を持つ試料ホルダーとして適しています。
また、単結晶(100)構造を有するため、各種材料のエピタキシャル成長用基板としても理想的です。
特長・機能
- 薄くて丈夫
- 幅広いフレーム・メンブレンサイズを供給
- 高い耐圧性
- 軟X線領域において窒化シリコン薄膜よりも高い透過率
- 標準フレーム:ホウ素(ボロン)p型ドープのシリコンウエハー
- 低抵抗率(1–30 Ω・cm)
- 優れた表面精度(0.5nm未満)
- 正方形窓以外に、長方形窓、複数窓(array)等のカスタムに対応可能
【比較表】メンブレン厚50nmにおける軟X線透過率シミュレーション結果
以下はLBL CXRO X線データベースのデータを基に、Silson社が作成したSiN薄膜とSi薄膜における軟X線透過率の比較グラフです。
Silson社では、各種薄膜の透過率計算に、CXROデータベースの使用を推奨しています。
該当ページはこちらからご確認いただけます。


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アプリケーション
- X線顕微鏡・電子顕微鏡向けサンプルホルダ
- 電子線・イオンビーム透過用の真空窓
- X線・光学フィルター
- その他ご研究用途
標準仕様
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標準オプション |
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メンブレン・サイズ |
0.02mm ~ 19.0mm角 |
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メンブレン・厚 |
30nm, 50nm, 100nm, 200nm, 500nm, 2,000nm, 5,000nm, 7,000nm, 10,000nm, 25,000nm, 50,000nm |
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フレーム・サイズ |
TEM, 5.0mm, 7.5mm, 10.0mm, 12.5mm, 14.0mm, 17.5mm, 23.5mmm角 |
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フレーム・厚 |
(メンブレン厚200nm以下の場合)200μm, (メンブレン厚2000nm以上の場合) 300μm |
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上記以外のサイズ要望はご相談を承ります。
※カスタム・オプション:複数窓
区画分け用途に、1つのフレームに3×3, 5×5等のメンブレン配列(array)を形成可能です。

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